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摇摆样品台

一种高效且优化的抛光方案，可有效去除帘幕效应。
摇摆样品台可以在 FIB 抛光表面过程中，通过倾斜样品来实现从不同方向对表面进行离子研磨，同时整个过程都可以实现 SEM 监控（传统的优中心样品台无法实现这一功能）。在截面抛光和 TEM 样品制备中，这已经被证实是一种高效且优化的去除帘幕效应的方法。
 

突出特点

  • 独特的多角度倾斜样品台——摇摆样品台可以使样品绕着截面的法向方向做多个角度的倾斜
  • 压电陶瓷驱动，保证高精度的六轴运动
  • 通过 SEM 成像，实时监控整个截面切割过程
  • 显著减弱帘幕效应
  • 切割操作过程中 SEM 实时监控，保证了终点检测的可靠性
  • 软件的导向程序可帮助用户正确设置摇摆样品台
  • 与 Drawbeam 模块集成——摇摆样品台和 Drawbeam 模块高度集成，可实现全自动的切割应用

摇摆样品台搭配 Xe 等离子源 FIB（FERA3 和 XEIA3）

  • 截面抛光
  • TEM 薄片的抛光（也可以实现自上而下的 TEM 样品减薄技术）

摇摆样品台搭配 Ga 离子源 FIB（LYRA3 和 GAIA3）

  • 水平方向的层剥离
  • 自上而下的 TEM 样品减薄
  • 截面抛光


 
摇摆样品台
使用摇摆样品台后的铜柱横截面
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适用领域和机型

钢铁及合金 材料科学
集成电路的失效分析 半导体和微电子
球栅阵列 半导体和微电子
硅通孔 半导体和微电子
引线焊接 半导体和微电子
显示器 半导体和微电子
微机电系统 半导体和微电子