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飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)已经可以安装在TESCAN LYRA3系列 (镓离子源FIB-SEM)和最新的FERA3Xe等离子源FIB-SEM)。

在TOP-SIMS中使用Xe+等离子源的优势
(相对Ga离子源)

更大的二次离子收益率(特别是高质量的分子和片段)
不会出现来自于Ga的干扰(Ga+会干扰其它谱峰,进而影响分析结果,如Ce, Ge, Ga)
更好的检测限


TOP-SIMS 中Xe+的检测限


在没有增加额外接收率的情况下,Li, Na, K的检测限是少
1·1017 at/cm3
2 ppm原子。

LYRA(Ga+ Canion column); 50 nm

* J. A. Whitby, et al., Advances in Materials Science and  Engineering, Vol. 2012, Article ID 180437 (2012).






FERA with Xe+ plasma column;100nm






SEM image of BAM L200

BAM L200 is certified reference material composed as a cross section of a semiconductor layer stack.

Red lines: Al(0.70)Ga(0.30)As

Blue lines: In(0.20)GA(0.80)AS