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电子束刻蚀 (EBL)


蚀刻印刷技术,其英文源于希腊语,意为将文本或图形印与材料表面。现在,蚀刻印刷技术是获得材料微米和纳米尺度微观形状、尺寸等特征的最重要手段之一。该方法是基于将沉积薄膜暴露于某种束源下完成蚀刻。根据所用束源的不同,蚀刻印刷技术分为光刻、电子束刻蚀(EBL)和离子束刻蚀等几种。这几种技术方法,在最高分辨率需求、可重复性、刻蚀速度与工艺复杂度和购置成本等方面相互区别,使其都有自己的特定应用领域。

电子束刻蚀是一种无表层保护膜的蚀刻技术,电子束根据计算机所设置的图案程序在基板表面进行扫描,直接获得最终蚀刻图案。曝光区域(相对于正电阻)与非曝光区域(相对于负电阻)被选择性的保留或去除,以达到在基体上制得纳米级微小结构的目的,此结构处抗蚀剂通过后续显影剂溶解进行移除。TESCAN电镜配有强大的硬件平台,能够实现高达50MHz的印刷蚀刻速度,同时保证16-bit的高准确率。且DrawBeam软件模块具有类似CAD的编辑界面,可简单快速地完成蚀刻图案设计。曝光蚀刻过程完全自动化和参数化, 刻录模式同时支持矢量对象和数字化位图,扫描刻录角亦可调节。


使用的设备为:

FERA3 GM

FERA3 GM是一款由计算机完全控制的Xe等离子聚焦离子束(i-FIB)场发射扫描电子显微镜,可选配气体注入系统 (GIS),可在高真空和低真空模式下工作,其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™平台的操作软件提供了简单的电镜操作和图像采集,可以保存标准文件格式的图片,可以对图像进行管理、处理和测量,实现了电镜的自动设...